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臺積電:先進封裝技術(shù)升級

發(fā)布日期:2020-04-13 瀏覽:2200

臺積電:先進封裝技術(shù)升級

 

晶圓代工龍頭臺積電持續(xù)擴大整合型扇出晶圓級封裝(InFO WLP)應(yīng)用,繼去年完成整合型扇出既基板(InFO_oS)、整合型扇出既記憶體及基板(InFO_MS)等先進封裝技術(shù)認證及進入量產(chǎn)階段,臺積電再針對高效能運算(HPC)芯片推出InFO等級的系統(tǒng)單晶圓(System-on-WaferSoW)技術(shù),能將HPC芯片在不需要基板及PCB情況下直接與散熱模組整合在單一封裝中。

 

HPC芯片是臺積電今年營運成長主要動能之一,包括承接超微的Zen 2Zen 3架構(gòu)EPYC伺服器處理器及RDNARDNA 2架構(gòu)繪圖芯片、英偉達(NVIDIATuringAmpere架構(gòu)繪圖芯片、賽靈思及英特爾的可程式邏輯閘陣列(FPGA)等,以及替Google或微軟等網(wǎng)路大廠打造的云端或人工智慧運算芯片等。

 

臺積電除了加碼擴增7納米及5納米等先進制程以因應(yīng)HPC晶圓代工強勁需求,也同步加碼先進封裝投資布局。其中,臺積電投入CoWoS(基板上晶圓上芯片封裝)制程研發(fā)到量產(chǎn)已有將近10年時間,主要針對高階邏輯芯片量身打造,讓HPC芯片可以獲得更大的記憶體頻寬來加速運算效率。臺積電現(xiàn)在最先進的CoWoS技術(shù)已可在芯片及基板的中介層(interposer)中達到5層金屬層(metal layers)及深溝槽電晶體(DTC)。

 

臺積電今年推出支援5納米邏輯SoC2.5倍光罩尺寸(reticle)中介層、最高支援搭載6HBM2e記憶體及最高96GB容量的CoWoS技術(shù),明年將推出支援5納米邏輯SoC3倍光罩尺寸中介層、最高支援搭載8HBM2e記憶體及最高128GB容量的CoWoS技術(shù)。由于HPC芯片的生產(chǎn)排程長達半年,近期新冠肺炎疫情帶動伺服器需求,但上半年CoWoS生產(chǎn)仍依計畫進行,并沒有看到訂單因疫情蔓延而增加情況發(fā)生。

 

臺積電針對手機芯片打造的InFO封裝技術(shù),蘋果A系列應(yīng)用處理器是InFO_PoP封裝最大客戶。臺積電2017年開始將InFO_oS技術(shù)應(yīng)用在HPC芯片并進入量產(chǎn),預(yù)估2020InFO_oS技術(shù)可有效整合9顆芯片在同一芯片封裝中。至于應(yīng)用在人工智慧推論芯片的InFO_MS技術(shù)在去年下半年認證通過,可支援1倍光罩尺寸中介層及整合HBM2記憶體。

 

臺積電今年則基于InFO技術(shù)再升級,推出支援超高運算效能HPC芯片的SoW封裝技術(shù),最大特色是將芯片陣列、電源供應(yīng)、散熱模組等整合,利用高達6層路線重分布(RDL)制程技術(shù),將多顆芯片及電源分配功能連結(jié),再直接貼合在散熱模組上,不需採用基板及PCB

 

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